檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "doping".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="離子束濺鍍"
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本實驗使用反應式離子束濺鍍法沉積氧化銀,藉由調變不同離子束能量、沉積溫度及氧氣分壓(Opf)來沉積氧化銀薄膜,之後再將鋁摻入薄膜觀察其變化。XRD分析在陽極電壓700 V下沉積,在Opf = 100…
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本實驗使用反應式離子束濺鍍法,以氧化鋅為緩衝層並於300度C下以石英及玻璃基板沉積含氮p型氧化鋅薄膜。XRD分析以氮流量0.5及5 sccm沉積之薄膜,5 sccm其(002)繞射峰值往小角度偏移而…